![高熱伝導率・低伝送損失ハロゲンフリー多層基板材料 R-5575X, R-5575](/content/data/EM/pictures/olimg_lloss_r-5575.jpg)
- ハロゲンフリー、低伝送損失、⾼熱伝導性を兼ね備え、多層成型性で”5G”における基地局の⼩型化や安定稼働に貢献
電子回路基板材料
- 品 番
![XPEDION T1](/content/data/EM/pictures/logo02_xpedion_t1.gif)
- 用 途
- 詳細用途
![アンテナ](/content/data/EM/pictures/pict_cbm_ant2.gif)
![オートモーティブ](/content/data/EM/pictures/pict_cbm_aut.gif)
・ワイヤレス通信
・オートモーティブ
・オートモーティブ
パワーアンプ基板(無線通信基地局、スモールセル)、 アンテナ(車載ミリ波レーダ、基地局)など
新規品番
Laminate R-5575X
Prepreg R-5470X
既存品番
Laminate R-5575
Prepreg R-5470
- 既存品番と新規品番にて、一部、UL認証項目の内容について差異がある場合がございます。
詳細は担当営業もしくはこちらのフォームからお問い合わせください。
品番末尾の()カッコ内の文字は当社における識別区分であり、UL認証の登録をしている品番には含まれておりません。
![サフィックス](/content/data/EM/pictures/img_suffix_annotation_202407.jpg)
![サフィックス](/content/data/EM/pictures/img_suffix_annotation_202407.jpg)
主要特性
Dk 3.60 Df 0.0045
@13GHz
@13GHz
熱伝導率
0.60W/m·K
0.60W/m·K
Tg (DMA)
245°C
245°C
商品紹介動画
伝送損失比較
![伝送損失比較](/content/data/EM/pictures/img_llossr5575_01_202407.jpg)
高温環境下における長期安定性(Dk, Df)
![高温環境下における長期安定性(Dk, Df)](/content/data/EM/pictures/img_llossr5575_02_202407.jpg)
一般特性
項目 | 試験方法 | 条件 | 単位 | XPEDION T1 R-5575X R-5575 |
他社 | |
---|---|---|---|---|---|---|
ガラス転移温度(Tg) | TMA | A | °C | 205 | Tg less | |
DMA | 245 | Tg less | ||||
熱膨張係数(厚さ方向) | α1 | IPC-TM-650 2.4.24 | A | ppm/°C | 20 | 21 |
α2 | 155 | 42 | ||||
T288(銅付) | IPC-TM-650 2.4.24.1 | A | 分 | >120 | >120 | |
熱伝導率 | レーザーフラッシュ法 | A | W/m·K | 0.6 | 0.6 | |
比誘電率(Dk) | 13GHz | 平衡型円板共振器法 | C-24/23/50 | - | 3.60 | 3.5 |
誘電正接(Df) | 0.0045 | 0.004 | ||||
銅箔引き剥がし強さ※ | 1oz(35µm) | IPC-TM-650 2.4.8 | A | kN/m | 0.80 | 0.58 |
試験片の厚さは0.5mmです。
※ RT銅箔
当社のハロゲンフリー材料は、JPCA-ES-01-2003などの定義に拠るものです。
含有率が塩素(Cl):0.09wt%(900ppm)以下、臭素(Br):0.09wt%(900ppm)以下、塩素(Cl)+臭素(Br):0.15wt%(1500ppm)以下
上記データは当社測定による代表値であり、保証値ではありません。