フレキシブル基板材料 FELIOS | R-F775

フレキシブル基板材料 FELIOS R-F775

 

  1. 多彩な厚みのラインアップによりモバイル機器をはじめ、様々な用途に適用可能。
  2. 耐熱性や寸法安定性、品質に優れる。
  3. 低アウトガスで航空宇宙用途にも対応。(ASTM E-595準拠)

電子回路基板材料

  • 品 番

Double-sided copper clad
R-F775
Single-sided copper clad
R-F770

Halogen-free
  • 用 途
  • 詳細用途
アビオニクスインダストリーオートモーティブ
・エアロスペース
・インダストリー
・オートモーティブ
モバイル機器(スマートフォン、タブレット PC)、医療機器、産業機器、航空機器、車載用ケーブル(ワイヤーハーネス代替)など

主要特性

高耐熱性
MOT 160°C
幅広いフィルム厚・銅箔厚ラインアップ
優れた寸法安定性

寸法精度

エッチング後の寸法変化

Panasonic Industry FCCL materials

R-F775 After etching

R-F775 After etching

Comparative material

After etching

Comparative material After etching

評価材料はR18-100-R18,厚み4milです。

上記データは当社測定による代表値であり、保証値ではありません。

ラインアップ

ラインアップ

一般特性

項目試験方法条件単位FELIOS
R-F775
はんだ耐熱性IPC-TM-650A°C280
C-96/40/90240
弾性率ASTM D882AGPa7.5
銅箔引き剥がし強さRA:1/2oz(18μm)IPC-TM-650AN/mm>1.4
熱膨張係数MD方向TMA100°C→250°C 5°C/分ppm/°C20
TD方向18
寸法安定性IPC-TM-650エッチング後 MD方向%0.00±0.10
エッチング後 TD方向0.00±0.10
アウトガスTML / CVCM / WVRASTM E595-07
ASTM E595-15
%0.62 / 0.001 / 0.51

試験片の厚さは、フィルム50μm、銅箔18μmです。
※TML:Total Mass Loss
 CVCM:Collected Volatile Condensable Material
 WVR:Water Vapor Recovered

当社のハロゲンフリー材料は、JPCA-ES-01-2003などの定義に拠るものです。
含有率が塩素(Cl):0.09wt%(900ppm)以下、臭素(Br):0.09wt%(900ppm)以下、塩素(Cl)+臭素(Br):0.15wt%(1500ppm)以下

上記データは当社測定による代表値であり、保証値ではありません。