プラズマ源について | ドライエッチング装置 | 商品情報 | パナソニックファクトリーソリューションズ株式会社

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従来のICPに加えて、Advanced-ICP（誘導結合型プラズマ源）を新たに開発。
MSC方式のAdvanced-ICP

高精度:低圧力・高密度プラズマにより微細加工、高アスペクト比エッチングが可能。
●プラズマ密度:（～10¹²cm^-3） ●プラズマ均一性:（±4.0%）

高能率:低インダクタンスの誘導コイルにより、高いパワー効率を実現。
●マッチング特性に優れ、大面積プラズマを容易に発生
●シングルスパイラル方式の1.5倍以上の効率性

■Advanced-ICPイオン飽和電流密度分布	■Advanced-ICPイオン飽和電流密度パワー依存性

低ダメージ:磁界レスの高均一性プラズマ、低ダメージエッチングが可能。

イージーコントロール:プラズマ密度とイオンエネルギーを独自にコントロールできるので、プロセス条件出しが容易。

長寿命:立ファラデーシールド兼用の独自ヒータ採用により、トップウィンドウのスパッタリングによる摩耗を低減。