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ドライエッチング装置ドライエッチング装置

E700 Series
ドライエッチングの基礎と応用 原理 装置の構成 要素技術 材料・デバイス別SEM写真 プラズマ源について

特長
高メンテナンス性チャンバー構造
マルチチャンバシステムにより高い生産性を実現しました。
業界最小クラスのフットプリント
制御部とガス供給部を本体に組込みシングルチャンバ機並のコンパクトな構成を実現しました。
高精度・高均一な加工を実現
Advanced ICPとシャワーヘッドの採用で、より高精度で均一な加工を実現しました。
大流量高真空排気系によりプロセスマージンを拡大
チャンバの大口径化により壁面からの影響を低減させました。
ダスト発生を低減
スライド式ゲートの採用によりダストの発生を低減させました。
メンテナンス性良好
石英天板、インナーカバー、電極など交換が容易にできるのでメンテナンス性が高く良好に行えます。
日本語、英語対応のGUI(グラフィックユーザーインターフェース)
操作性が向上し、メンテナンス自動チェック機能も搭載しています。
仕様
機種名 E720 E760
基板サイズ 6 〜 8 インチ
レジデンスタイム 0.016 s
プラズマ源 Advanced ICP
被エッチング膜 WSi, Poly-Si, Si, Silicide, Sトレンチ, SiO2, SiN, GaAs 等 TiN, Al-Si-Cu, TiN, Ti, Al, Al-Cu