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ドライエッチング装置
ドライエッチング装置

E650
ドライエッチングの基礎と応用 原理 装置の構成 要素技術 材料・デバイス別SEM写真 プラズマ源について

特長
コンパクト構成
コンパクトボディーにエッチング、アッシングチャンバーを搭載し、あらゆるメタルエッチに対応します。
静電チャック電極搭載(オプション)
エッチング室に双極型静電チャツク電極を搭載し、デバイスの歩留り向上を実現しました。
チャンバー内の摺動部を削減し、パーティクルの発生を防いでいます。
省スペース
制御盤を本体に一体化し据付け面積3.6 m2 本体幅1 000 mmを達成したコンパクトマシン
高信頼メカニズム
ウエハ搬送は万一の停電やイレギュラー操作にも誤動作しにくいオールカム駆動のシンクロナイズド・トランスファ・メカニズムを採用。
仕様
機種名 E650
基板サイズ 3 〜 8インチ
レジデンスタイム 0.0414 s
プラズマ源 MSC方式ICP / RIE
被エッチング膜 TiN, Al-Si-Cu, TiN, Ti, Al, Al-Cu