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ドライエッチング装置ドライエッチング装置

E620 R&D type
ドライエッチングの基礎と応用 原理 装置の構成 要素技術 材料・デバイス別SEM写真 プラズマ源について

特長
独自のICPプラズマ源搭載で、超微細加工に対応
量産実績豊富なE600シリーズの高信頼性を継承
仕様
機種名 E620 ICP D/E装置 R＆D仕様
基板サイズ φ3 〜 8 インチ
（但し、φ3 インチ、角基板対応はオプション）
プラズマ源 MSC方式ICP / RIE
被エッチング膜 Al, Ti, TiN, Si, Poly-Si, W, WSi, SiN, SiO2, SiON, GaAs,
InP, GaN, Pt, Au, SBT, PZT, STO, Ni, NiFe, NiCo, Ag, 他